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图示结构的支座反力是正确的。
几何可变体系在任何荷载作用下都不能平衡。
一个刚片可以是一根杆或者是由几个刚片组成的几何不变体系。
几何不变体系的计算自由度一定等于零。
有多余约束的体系一定是几何不变体系。
三个刚片用三个铰两两相互联结而成的体系是：
三刚片由三个单铰或任意六根链杆两两相联，体系必为几何不变。
三个刚片用不在同一直线上的三个虚铰两两相联，则所组成的体系是无多余约束的几何不变体系。
图示体系按三刚片法则分析，三铰共线，故为几何瞬变体系。
几何瞬变体系产生的运动非常微小并很快就转变成几何不变体系，因而可以用 作工程结构。
两个刚片，用三根链杆联结而成的体系是：
两刚片用汇交于一点的三根链杆相联，可组成几何不变体系。
图示体系为几何可变体系。
图示体系是几何不变体系。
图中链杆1和2的交点o为虚铰。
图示平面体系的几何组成性质是：
图示体系是几何不变体系。
静定结构的几何特征是：
图示结构支座a的反力（向上为正）是：
图示圆拱中支座c的竖向反力为：
图示三铰拱左支座的竖向反力为： （ ）
静定结构在荷载作用下，其全部反力和内力：
静定结构的全部内力及反力，只根据平衡条件求得，且解答是唯一的。
几何不变体系一定是静定结构。
静定结构的“解答的唯一性”是指无论反力、内力、变形都只用静平衡条件即可确定。
图示结构所给出的m图形状是：
图示梁的弯矩图是正确的。（ ）
同一简支斜梁，分别承受图示两种形式不同但集度相等的分布荷载时，二者的弯矩图相同。( )
图示结构中ab杆的弯矩为常数。
图a所示结构的m图如图b所示。
图示结构ab杆内力为零。
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⒈在宿舍空间内, 如何通过空间关系和动作细节, 表现一个同学与其他室友格格不入? ⒉一个同学早晨起晚了, 离上课只有五分钟, 表现这位同学从宿舍到教室的过程?
被称为“曲状元”的作家是（ ）
《梧桐雨》的主要人物是（ ）
关汉卿的代表作是（ ）
《西厢记》的作者是（ ）
纪君祥的代表作是（ ）
自称为“烟霞状元”的散曲家是（ ）
贯云石与徐再思的散曲被收入一集之中，并称（ ）
元朝松雪道人诗书画精绝，文采风流，照映后人，此人是（ ）
元代后期诗坛领袖，其诗被称为“铁崖体”的诗人是（ ）
摹绘汉高祖刘邦衣锦还乡、辛辣讽刺皇权的元曲作品《[般涉调]哨遍 高祖还乡》的作者是（ ）
元诗四大家包括（ ）
元曲四大家包括（ ）
元代理学家兼诗文家包括（ ）
元代两都巡幸制成就了上京纪行诗这特殊题材的诗文创作，上京纪行诗作者包括（ ）
元朝四等人包括蒙古、色目、、南人，南人诗文家包括（ ）
高明（ ）标志着南戏的成熟，被称为“南戏之祖”。
李修生先生主编完成断代总集（ ），奠定了元代诗文研究的基础。
断代总集《全元诗》的主编是（ ）。（只填，不加先生、老师等后缀）
清代顾嗣立编选元代诗文总集之名是（ ）。
《元曲选外编》编纂者是（ ）。（只填，不加先生、老师等后缀）
《三国志演义》的成书方式是（ ）
《水浒传》是明清通俗小说哪种类型的代表性文本（ ）
《西游记》中唐僧的历史人物原型是（ ）
《金瓶梅》文本传播的最早时间是（ ）
金圣叹所称的“第五才子书”是指（ ）
《牡丹亭》作者汤显祖是哪里人 （ ）
汤显祖提出的关于情的主张是（ ）
以下不属于“临川四梦”的是（ ）
以下不属于《牡丹亭》中人物的是（ ）
“人之视蚁，细碎营营，去不知所为，行不知所往，意之皆为居食事耳。见其怒酣斗，岂不吷然而笑曰：‘何为者耶？’天上有人焉，其视下而笑也，亦若是而已矣。”出自哪一部剧（ ）
“文不甚深，言不甚俗”是小说（ ）语言的一大特色。
明传奇“四大声腔”不包括（ ）。
王三巧是小说（ ）中的人物。
被正史推为明代“开国文臣之首”的文学家是（ ）。
下列传奇作品中，反映当时政治事件的时事剧是（ ）。
最早把书名称为《三国演义》的修订评点者是（ ）父子。在民间，此书常被简称为 “三国”或“三国志”，不过这与陈寿著的《三国志》有着本质的区别。（用顿号隔开）
《陶庵梦忆》的作者（ ）是明末小品文的最后一位大家，其中的名篇《西湖七月半》描摹了五类人看月的众生相，组成了一幅异态纷呈的世俗游览图。
“前七子”的代表人物是（ ）和何景明，他们提出的口号是“文必秦汉，诗必盛唐” 。
《水浒传》中梁山泊上的三员女将孙二娘、顾大嫂、扈三娘，她们的绰号分别是（ ）。（用顿号隔开）
（ ）代表了唐宋派散文创作的最高成就，《项脊轩志》、《先妣事略》等是他的散文名篇。
1.《桃花扇》的作者是（ ）
《桃花扇》反映的是哪一个朝廷的兴亡历史（ ）
《桃花扇》一剧中女主角是（ ）
剧中作为侯方域、史可法等对立面出现的是魏余孽（ ）
“朝廷得失，文人聚散，皆确考时地，全无假借。至于儿女钟情，宾客解嘲，虽有点染，亦非子虚之比”，说的是哪一部剧？（ ）
《红楼梦》的最早的评点者是（ ）
《红楼梦》写出了哪几个人的爱情婚姻悲剧（ ）
下面诗歌中哪一首并非黛玉所作（ ）
如果说《红楼梦》爱情婚姻悲剧是围绕贾宝玉、林黛玉、薛宝钗而写的，那么在贾府荣辱兴衰的这根线条中，谁又是关键的一环？（ ）
《桃花扇》“余韵”一出中的“渔”、“樵”两人是指（ ）
清初遗民三大思想家是（ ）
“千里搭长棚,没有个不散的筵席”一语出于《红楼梦》中（ ）之口
被称为“千百年来曲中巨擘”的戏剧作品是（ ）
李渔的戏曲理论见于所著（ ）
《红楼梦》第六十三回“寿怡红群芳开夜宴”中，宝钗掣得的花签是（ ）
《儒林外史》中，有较多作者本人影子的人物形象是（ ）
汪中是清代骈文的代表作家，其代表作（ ）一文真实而生动地描绘了扬州江面盐船失火时的惨况
《长生殿》中下列人物中的（ ）谱写了《霓裳羽衣曲》
清初吴伟业擅长于七言歌行，时称“梅村体”，其（ ）以吴三桂和陈圆圆的悲欢离合为叙事主线
《桃花扇》的内容是以男女爱情故事来反映南明弘光王朝覆灭的历史，作者自称其写作目的是“ ”
营养学会建议的平衡膳食宝塔提出了
平衡膳食是指
胎儿出生时体内储备的铁，一般可满足多长时期内婴儿对铁的需要量
母乳喂养的婴幼儿添加辅食，从第几个月开始最好
儿童生长发育迟缓、食欲减退或有异食癖，最可能缺乏的营养素是
母亲妊娠期间严重缺碘，对胎儿发育影响最大的是
下列哪种营养素不易通过乳腺输送到乳汁中
老年人保证充足的维生素e供给量是为了
有关母乳喂养，不正确的说法是
对妊娠中期机体营养状况的描述，下列哪项是错误的
世界上第一只晶体管是 材料的晶体管。
2000年度的诺贝尔物理学奖授予发明了世界上第一个集成电路的科学家 ，以表彰他为现代信息技术所做出的基础性贡献。
在现代集成电路制造工艺中，先进的制造工艺技术常常采用8英寸的硅片或12英寸的晶圆。其中，晶圆尺寸主要指的是硅片的 。
每立方英尺中所含直径大于0.5um颗粒数量小于1000，那么该环境的洁净等级为
所有的物品进入生产之前都必须进行清洁处理才能带入操作间。
集成电路的集成度越高，特征尺寸越小，对洁净度的要求越高。
洁净室内常见的洁净设备包括
净化设备中最核心的是过滤器。
对于洁净度高的要求利用高效过滤器，对于洁净度低的采用粗过滤器。
半导体材料主要有两大类，包括
碳化硅和氮化镓作为衬底材料常用于功率器件。
砷化镓属ⅲ－ⅴ族化合物半导体材料，易碎，需轻拿轻放。
电子迁移率比硅高6倍，多应用于超高速、超高频器件和集成电路中。
锗的禁带宽度比硅大，所制作的器件比硅耐高温。
单晶硅生长需要满足的条件包括
常见的制备单晶硅的方法有
三氯氢硅的氢还原法可以制备单晶硅。
直拉法制备的单晶直径比较大，杂质也比悬浮区熔法制备的单晶少。
剩下不多的多晶硅时，要提高温度和提拉速度，进行收尾拉光，否则容易引起坩埚的破裂。
确定单晶硅导电类型的方法是
少数载流子寿命测试方法是
常用的电阻率的测试方法是
位错是一种点缺陷，由晶胞错位引起的。
为了去除表面的杂质、缺陷，进一步去除硅片表面微量的损伤层，需要进行的工艺是
单晶硅棒形成之后，我们首先需要对其进行掐头去尾和径向研磨。
切片之前必须采用光点定向法对单晶硅进行定晶向。
一般8in以上的硅片采用内圆切割，8in以下的硅片采用线锯切割。
利用一定的刃部轮廓的砂轮磨掉硅片边缘的棱角，使之变得光滑的工艺为
双极型晶体管的制作工艺流程中，首先制备的是 ，其次制备的是 ，最后制备的是 ，依次为：
集成电路的绝缘介质隔离技术中，最常用的介质是 。
常用的电阻率的测试方法是
少数载流子寿命测试方法是
确定单晶硅导电类型的方法是
为了去除表面的杂质、缺陷，进一步去除硅片表面微量的损伤层，需要进行的工艺是
当前半导体材料 应用最广泛的是
硅片制备过程中 常常采用的定向方法是
半导体行业用到的多晶硅纯度一般为
每立方英尺中所含直径大于0.5um颗粒数量小于1000，那么该环境的洁净等级为
集成电路，按照功能可以为 。
集成电路的制造工艺，需要采用隔离技术，常见的隔离方法有 。
制备单晶硅的方法有
单晶硅生长需要满足的条件
直拉法制备单晶时，单晶炉中的电气控制系统主要控制的工艺参数有
多晶硅的制备方法有
直拉法制备硅单晶时，常常含有的杂质包括
半导体材料的特性主要包括
过滤器根据过滤效率一般可分为
直拉法制备的单晶直径比较大，杂质也比悬浮区熔法制备的单晶少。
剩下不多的多晶硅时，要提高温度和提拉速度，进行收尾拉光，否则容易引起坩埚的破裂。
三氯氢硅的氢还原法可以制备单晶硅。
位错是一种点缺陷，由晶胞错位引起的。
单晶硅棒形成之后，我们首先需要对其进行掐头去尾和径向研磨。
切片之前必须采用光点定向法对单晶硅进行定晶向。
一般8in以上的硅片采用内圆切割，8in以下的硅片采用线锯切割。
如果一个晶格原子进入间隙并产生空位，即间隙原子和空穴同时产生，这种缺陷称为弗伦克尔缺陷。
所有的物品进入生产之前都必须进行清洁处理才能带入操作间。
集成电路的集成度越高，特征尺寸越小，对洁净度的要求越高。
净化设备中最核心的是过滤器。
对于洁净度高的要求利用高效过滤器，对于洁净度低的采用粗过滤器。
硅的禁带宽度比锗大，所制作的器件比锗耐高温。
碳化硅和氮化镓作为衬底材料常用于功率器件。
砷化镓属ⅲ－ⅴ族化合物半导体材料，易碎，需轻拿轻放。
电子迁移率比硅高6倍，多应用于超高速、超高频器件和集成电路中。
特征尺寸是衡量集成电路设计和制造水平的重要尺度，它主要是指集成电路的关键尺寸，常用单位是微米和 。
利用一定的刃部轮廓的砂轮磨掉硅片边缘的棱角，使之变得光滑的工艺为
目前常见的半导体材料包括元素半导体和
单晶硅形成时，必须要有一个排列标准，这个标准称为
利用高频感应线圈对多晶硅逐段熔化，在多晶硅锭下方装置籽晶，熔区从籽晶和多晶硅锭界面开始，熔区推进，单晶拉制成功，该方法是
用于解决铝尖刺问题的方法主要有哪些？
集成电路中常常用于插塞的金属是什么？
二氧化硅的作用有哪些？
二氧化硅作为选择性扩散的条件有哪些？
金属铝互连常常出现的问题是什么？
解决铝互连电迁移问题的方法有哪些？
集成电路互连常常用难熔金属与多晶硅形成金属硅化物，常用的难熔金属有哪些？
金属薄膜在集成电路中有哪些作用？
铜作为金属互连材料有哪些缺点？
氮化硅性能比二氧化硅更加稳定，介电常数更大，因此可以得到更高的击穿电压。
多晶硅不仅可以作为栅材料，还可以作为局部互连材料，例如栅的互连。
砷化镓也是一种常见的半导体材料，属于化合物半导体，常用于制作超高速的晶体管和集成电路和各种半导体发光器件。
铝的电阻率比铜低，因此导电能力更强。
硅化钛和硅化钽常常用作金属互连工艺中的反射层和阻挡层
解决铝互连中肖特基接触的方法是在电极引出部分进行
要产生1000埃厚度的二氧化硅，需要消耗多少厚度的硅
影响热氧化速率中，哪种因素是最重要的?
增加热氧化速率的方法有哪些？
二氧化硅厚度的测试方法有哪些？
氧化层表面的缺陷有哪些？
热氧化反应一般发生在硅和二氧化硅的界面。
热氧化的速率与晶圆的晶向有关，但与氧化剂压力无关。
掺氯氧化可以减少氧化层错堆垛，吸附钠离子。
氢氧合成氧化结束时，必须将氧化炉中的氢气去除干净。
在高温条件下，硅与氧化剂反应，产生二氧化硅的工艺过程是
vpe的含义是
mocvd的含义
气相外延生长硅需要进行抛光，常用的抛光物质是
气相外延生长硅时，sicl4的浓度越高越好。
mbe的含义是